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一种单晶生长装置和单晶生长方法

申请号: CN202410199685.0
申请人: 苏州优晶半导体科技股份有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种单晶生长装置和单晶生长方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410199685.0
申请日 2024/2/23
公告号 CN117779179A
公开日 2024/3/29
IPC主分类号 C30B23/00
权利人 苏州优晶半导体科技股份有限公司
发明人 蔡金荣; 陈建明; 赵文超; 杨洪雨; 范子龙
地址 江苏省苏州市昆山市开发区杜鹃路555号A6#厂房

摘要文本

本发明属于单晶生长设备技术领域,具体涉及一种单晶生长装置和单晶生长方法,包括:充气部,其整体安装在保温罩的中部开口处,且其具有第一气流通道以及分别与第一气流通道连通的上部进气口、侧面出气口、底部出气口;芯轴,其至少部分套设在第一气流通道内,且其内部开设有具有芯轴进气口、芯轴出气口的第二气流通道,且位于芯轴进气口和芯轴出气口之间的部分芯轴外设置有凸起部,且芯轴与充气部在沿气流方向上能相对移动,通过凸起部调节经第一气流通道流向侧面出气口和第二气流通道的气流比例。本发明能够实现对坩埚上端面的温度调控,保证坩埚上端面温度均匀,提高单晶的生长稳定性,从而利于单晶的优质生长。 (来自 )

专利主权项内容

1.一种单晶生长装置,包括坩埚,位于坩埚外侧面的加热器,设置在坩埚和加热器的外部的保温罩,以及气源;所述保温罩的中部开口且开口位于所述坩埚上端面的上方,其特征在于,还包括:充气部,其整体安装在所述保温罩的中部开口处,且其下端沿靠近坩埚上端面的方向延伸,且其具有第一气流通道以及分别与第一气流通道连通的上部进气口、侧面出气口、底部出气口,所述上部进气口与所述气源连通,所述底部出气口朝向所述坩埚上端面的中部位置,所述侧面出气口朝向所述坩埚上端面的靠近边缘位置;芯轴,其至少部分套设在所述第一气流通道内,且其内部开设有具有芯轴进气口、芯轴出气口的第二气流通道,所述芯轴进气口与所述第一气流通道、上部进气口、侧面出气口均相互连通,所述芯轴出气口与所述底部出气口连通,且位于所述芯轴进气口和所述芯轴出气口之间的部分芯轴外设置有凸起部,且所述芯轴与所述充气部在沿气流方向上能相对移动,以通过凸起部调节经第一气流通道流向所述侧面出气口和所述第二气流通道的气流比例。