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一种熔点相差较大的异种材料的交替激光沉积制造方法

申请号: CN202410033049.0
申请人: 江苏大学
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种熔点相差较大的异种材料的交替激光沉积制造方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410033049.0
申请日 2024/1/10
公告号 CN117548690A
公开日 2024/2/13
IPC主分类号 B22F10/28
权利人 江苏大学
发明人 卢海飞; 张龙善; 鲁金忠; 徐祥; 罗开玉; 刘洋; 张红梅
地址 江苏省镇江市学府路301号

摘要文本

本发明公开了一种熔点相差较大的异种材料的交替激光沉积制造方法,属于异种金属材料的激光增材制造技术领域。所述交替激光沉积制造方法包括以下步骤:在基板上交替激光沉积高熔点材料和低熔点材料,得到交替异种材料;在所述高熔点材料上激光沉积低熔点材料时,采用负离焦激光沉积方式;在所述低熔点材料上激光沉积高熔点材料时,采用正离焦激光沉积方式。本发明通过正/负离焦的变离焦量方式,解决了因熔点相差较大的异种材料界面的未熔或过熔而导致的界面结合问题,有效提升了高/低熔点交替异种金属材料构件的综合力学性能,实现了熔点相差较大的异种材料的高质量交替激光沉积制造。。数据由马 克 数 据整理

专利主权项内容

搜索 1.一种熔点相差较大的异种材料的交替激光沉积制造方法,其特征在于,包括以下步骤:在基板上交替激光沉积高熔点材料和低熔点材料,得到交替异种材料;在所述高熔点材料上激光沉积低熔点材料时,采用负离焦激光沉积方式;在所述低熔点材料上激光沉积高熔点材料时,采用正离焦激光沉积方式;所述负离焦激光沉积是指激光焦点与待沉积基体表面的距离<0;所述正离焦激光沉积是指激光焦点与待沉积基体表面的距离>0。