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一种密封圈绘制方法、绘制系统、电子设备和储存介质
申请人信息
- 申请人:宁波联方电子科技有限公司
- 申请人地址:315800 浙江省宁波市北仑区新碶街道大港二路69号一层113-2室
- 发明人: 宁波联方电子科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种密封圈绘制方法、绘制系统、电子设备和储存介质 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410160178.6 |
| 申请日 | 2024/2/5 |
| 公告号 | CN117709285A |
| 公开日 | 2024/3/15 |
| IPC主分类号 | G06F30/392 |
| 权利人 | 宁波联方电子科技有限公司 |
| 发明人 | 唐明帅; 杨正中; 赵克建 |
| 地址 | 浙江省宁波市北仑区新碶街道大港二路69号一层113-2室 |
摘要文本
本发明公开了一种密封圈绘制方法、绘制系统、电子设备和储存介质，通过导入并解析芯片配置信息，系统自动根据所述配置信息将密封圈拐角吸附至芯片侧端；分析所述密封圈拐角切面处包含的各层内部的端点信息，选择任一密封圈拐角切面处其中一个层的端点作为起始点，再选择相同层上另外的端点作为终点，将起始点坐标和终点坐标分别与另一侧的密封圈拐角切面同层的端点进行连接，形成完整的密封圈，上述方法无需人工根据密封圈的不同层逐层绘制，提升了密封圈的绘制速度，降低人工误差，缩短密封圈的开发时间。。 （）
专利主权项内容
1.一种密封圈绘制方法，其特征在于，所述方法包括：导入并解析芯片和密封圈的配置信息，根据所述配置信息将密封圈拐角对应吸附至芯片拐角处；分析所述密封圈拐角包含的各层内部的端点信息；连接密封圈拐角切面处的端点形成密封圈。