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一种制备半导体晶片的旋转平台

申请号: CN202420793762.0
申请人: 杭州泽达半导体有限公司
申请日期: 2024/4/17

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种制备半导体晶片的旋转平台
专利类型 实用新型
申请号 CN202420793762.0
申请日 2024/4/17
公告号 CN222106663U
公开日 2024/12/3
IPC主分类号 H01L21/68
权利人 杭州泽达半导体有限公司
发明人 张扬伙; 刘硕
地址 浙江省杭州市钱塘区河庄街道东围路599号博潮城6幢北一层、二层

摘要文本

本实用新型公开了一种制备半导体晶片的旋转平台,涉及到半导体晶片加工技术领域,其包括底台,所述底台的顶部开设有安装槽,安装槽的底部内壁上固定安装有第一电机,第一电机的输出轴上固定安装有转盘,转盘的顶部环形等间距固定安装有多个加工台,多个加工台的顶部均转动连接有放置台,加工台的内部设置有传动组件,传动组件与放置台的底部相配合,放置台的顶部开设有放置槽,放置槽的内部设置有定位组件,本实用新型通过简单的结构实现了对不同尺寸晶片的稳定固定,同时能够使得晶片固定后处于放置槽的中心位置,提高了电动吸盘对晶片吸附的稳定性,便于后续对晶片进行加工操作,且操作方便,省时省力,实用性强。

专利主权项内容

1.一种制备半导体晶片的旋转平台,包括底台(1),其特征在于,所述底台(1)的顶部开设有安装槽(2),安装槽(2)的底部内壁上固定安装有第一电机(3),第一电机(3)的输出轴上固定安装有转盘(4),转盘(4)的顶部环形等间距固定安装有多个加工台(7),多个加工台(7)的顶部均转动连接有放置台(8),加工台(7)的内部设置有传动组件,传动组件与放置台(8)的底部相配合,放置台(8)的顶部开设有放置槽(9),放置槽(9)的内部设置有定位组件,定位组件用于使晶片处于放置槽(9)的中心位置,放置台(8)的内部开设有腔室(12),腔室(12)的内部设置有电动吸盘(13),电动吸盘(13)的顶端贯穿腔室(12)的顶部内壁并延伸至放置槽(9)的内部。