本发明提供一种MEMS器件及其制作方法，所述方法包括：提供MEMS晶圆，在所述MEMS晶圆的正面形成有图案化的器件层；在所述MEMS晶圆正面形成具有开口的缓冲层，其中，所述缓冲层的厚度大于所述图案化的器件层的厚度，所述开口暴露所述图案化的器件层；在所述缓冲层上形成保护层，其中所述保护层的底部与所述图案化的器件层的顶部不接触；反转所述MEMS晶圆，执行背面工艺。
根据本发明的制作方法，由于作为保护层的胶带的粘性面不与图案化的器件层接触，在去除所述胶带的过程中不会对所述图案化的器件层造成影响，改善了MEMS器件在去除胶带(Detape)工艺中产生损伤的现象，保护了器件，提高了所述MEMS器件的性能和良率。

郑超 李卫刚

中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

201203 上海市浦东新区张江路18号

本发明提供一种MEMS器件及其制作方法，所述方法包括：提供MEMS晶圆，在所述MEMS晶圆的正面形成有图案化的器件层；在所述MEMS晶圆正面形成具有开口的缓冲层，其中，所述缓冲层的厚度大于所述图案化的器件层的厚度，所述开口暴露所述图案化的器件层；在所述缓冲层上形成保护层，其中所述保护层的底部与所述图案化的器件层的顶部不接触；反转所述MEMS晶圆，执行背面工艺。
根据本发明的制作方法，由于作为保护层的胶带的粘性面不与图案化的器件层接触，在去除所述胶带的过程中不会对所述图案化的器件层造成影响，改善了MEMS器件在去除胶带(Detape)工艺中产生损伤的现象，保护了器件，提高了所述MEMS器件的性能和良率。