本发明提供一种玻璃基板的研磨方法，其在以氧化铈为研磨磨粒的玻璃基板的研磨处理中能够长时间维持比以往高的研磨速度。
本发明中，将包含氧化铈作为研磨磨粒的研磨液供给到玻璃基板的研磨面而对玻璃基板进行研磨处理。
该研磨液包含上述氧化铈作为研磨磨粒，进而包含接收光而将氧化铈还原的物质。
并且，在研磨处理时进行对研磨液照射光的处理。

中川裕树 中山嘉四雄

HOYA株式会社

日本东京都

本发明提供一种玻璃基板的研磨方法，其在以氧化铈为研磨磨粒的玻璃基板的研磨处理中能够长时间维持比以往高的研磨速度。
本发明中，将包含氧化铈作为研磨磨粒的研磨液供给到玻璃基板的研磨面而对玻璃基板进行研磨处理。
该研磨液包含上述氧化铈作为研磨磨粒，进而包含接收光而将氧化铈还原的物质。
并且，在研磨处理时进行对研磨液照射光的处理。