本发明公开了一种含还原剂的碳化硅抛光液，所述碳化硅抛光液由研磨剂颗粒、还原剂、硝酸和去离子水组成，且所述碳化硅抛光液pH值为1～7。
本发明的碳化硅抛光液，不仅具有切削率高，表面质量稳定，循环使用寿命长的优点，而且无挥发性和重金属污染问题，易于长期储存，尤其适用于难加工的含硅表面的超精密光学器件或半导体功率器件的表面抛光。
本发明还公开了一种含还原剂的碳化硅抛光液的制备方法和应用。

孙韬 陈腾飞 张泽芳

宁波日晟新材料有限公司 上海工程技术大学

315410 浙江省宁波市余姚市丈亭镇龙丰村

本发明公开了一种含还原剂的碳化硅抛光液，所述碳化硅抛光液由研磨剂颗粒、还原剂、硝酸和去离子水组成，且所述碳化硅抛光液pH值为1～7。
本发明的碳化硅抛光液，不仅具有切削率高，表面质量稳定，循环使用寿命长的优点，而且无挥发性和重金属污染问题，易于长期储存，尤其适用于难加工的含硅表面的超精密光学器件或半导体功率器件的表面抛光。
本发明还公开了一种含还原剂的碳化硅抛光液的制备方法和应用。