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专利摘要

本发明涉及抛光领域,公开了一种抛光介质制备装置和方法、机械化学抛光设备和方法。
其中,所述一种抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐、用于向所述储液罐内释放预定压力气体的气压泵、第一管道和第二管道;所述第一管道的一端与所述气压泵的出气口连接,另一端从所述储液罐的进液口延伸至所述储液罐的底部;所述第二管道从所述储液罐的底部延伸至所述储液罐外;所述第一管道延伸至所述储液罐的底部的一端设置有螺旋增压结构,所述螺旋增压结构用于促进从所述第一管道释放的气体与所述储液罐内的抛光液充分混合,以形成抛光介质。
通过上述技术上方案,能够制备满足高效率抛光和高品质抛光的抛光介质。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010540873.7
申请日
2020-06-15
公开日
2020-09-08
公开号
CN111633563A
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
发明公开

发明人

尹涛 赵盼盼 尹永仁 冯凯萍 张天雷

申请人

衢州学院 嘉兴星微纳米科技有限公司

申请人地址

324000 浙江省衢州市九华北大道78号

专利摘要

本发明涉及抛光领域,公开了一种抛光介质制备装置和方法、机械化学抛光设备和方法。
其中,所述一种抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐、用于向所述储液罐内释放预定压力气体的气压泵、第一管道和第二管道;所述第一管道的一端与所述气压泵的出气口连接,另一端从所述储液罐的进液口延伸至所述储液罐的底部;所述第二管道从所述储液罐的底部延伸至所述储液罐外;所述第一管道延伸至所述储液罐的底部的一端设置有螺旋增压结构,所述螺旋增压结构用于促进从所述第一管道释放的气体与所述储液罐内的抛光液充分混合,以形成抛光介质。
通过上述技术上方案,能够制备满足高效率抛光和高品质抛光的抛光介质。

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