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专利摘要

本发明公开了一种抛光方法,包括:对工件机械研磨;使用电解抛光液对工件进行电解抛光,所述电解抛光液包括硫酸、磷酸和超纯水,所述电解抛光液的比重为1.5~2.0,电解温度为40~60℃,阳极电流密度为50~60A/dm

专利状态

基础信息

专利号
CN201910109597.6
申请日
2019-02-11
公开日
2021-05-18
公开号
CN109706516B
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

耿德占 王大钊

申请人

中科艾尔(北京)科技有限公司

申请人地址

100020 北京市朝阳区博大路鸿博公园东门中科艾尔

专利摘要

本发明公开了一种抛光方法,包括:对工件机械研磨;使用电解抛光液对工件进行电解抛光,所述电解抛光液包括硫酸、磷酸和超纯水,所述电解抛光液的比重为1.5~2.0,电解温度为40~60℃,阳极电流密度为50~60A/dm

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