本发明涉及一种铜材料表面的电化学抛光方法，包括如下步骤：配制抛光溶液；将待抛光铜材料浸入抛光溶液中，开通电源进行抛光；其中，配制抛光溶液包括：根据要配制溶液的总体积计算各溶质的用量，溶质包括磷酸、丙三醇、硫脲和聚氧乙烯烷醇酰胺；根据计算结果，称取磷酸、丙三醇导入耐腐蚀容器中，加水至达到所述总体积，搅拌溶解得到第一中间溶液；根据计算结果，称取硫脲并加入到第一中间溶液中，搅拌溶解得到第二中间溶液；根据计算结果，量取聚氧乙烯烷醇酰胺并加入到第二中间溶液中，搅拌均匀得到抛光溶液。
本发明能使铜精密零件的表面粗糙度从Ra0.4μm提高至Ra0.2μm，以满足真空电子器件使用要求。

刘洋 董笑瑜 梁田 吴亚琴 成红霞 唐中华 吕婧

南京三乐集团有限公司

210000 江苏省南京市浦口区浦口经济开发区光明路5号

本发明涉及一种铜材料表面的电化学抛光方法，包括如下步骤：配制抛光溶液；将待抛光铜材料浸入抛光溶液中，开通电源进行抛光；其中，配制抛光溶液包括：根据要配制溶液的总体积计算各溶质的用量，溶质包括磷酸、丙三醇、硫脲和聚氧乙烯烷醇酰胺；根据计算结果，称取磷酸、丙三醇导入耐腐蚀容器中，加水至达到所述总体积，搅拌溶解得到第一中间溶液；根据计算结果，称取硫脲并加入到第一中间溶液中，搅拌溶解得到第二中间溶液；根据计算结果，量取聚氧乙烯烷醇酰胺并加入到第二中间溶液中，搅拌均匀得到抛光溶液。
本发明能使铜精密零件的表面粗糙度从Ra0.4μm提高至Ra0.2μm，以满足真空电子器件使用要求。