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专利摘要

本发明所涉及的电极箔的制造方法是制造部分蚀刻的电极箔的方法,包括:第1工序,准备带状的金属箔;第2工序,配置掩蔽构件,使得覆盖所述金属箔的至少一个主面的一部分;和第3工序,在所述第2工序之后,在蚀刻液中,使电极隔着所述掩蔽构件与所述金属箔对置的状态下,在所述金属箔与所述电极之间流过电流,对所述金属箔的所述主面部分地进行蚀刻,所述掩蔽构件是带状,在所述第2工序,所述掩蔽构件配置为沿着所述金属箔的长边方向,并且与所述金属箔的两个端边分离。

专利状态

基础信息

专利号
CN201680068471.3
申请日
2016-10-27
公开日
2021-04-23
公开号
CN108292564B
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

小林恭平 杉原之康 吉田宽 吉村满久 中西弘美

申请人

松下知识产权经营株式会社

申请人地址

日本国大阪府

专利摘要

本发明所涉及的电极箔的制造方法是制造部分蚀刻的电极箔的方法,包括:第1工序,准备带状的金属箔;第2工序,配置掩蔽构件,使得覆盖所述金属箔的至少一个主面的一部分;和第3工序,在所述第2工序之后,在蚀刻液中,使电极隔着所述掩蔽构件与所述金属箔对置的状态下,在所述金属箔与所述电极之间流过电流,对所述金属箔的所述主面部分地进行蚀刻,所述掩蔽构件是带状,在所述第2工序,所述掩蔽构件配置为沿着所述金属箔的长边方向,并且与所述金属箔的两个端边分离。

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