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专利摘要

本实用新型公开了一种用于腐蚀箔生产的新型反应槽,包括装置本体、转轴和温度传感器,所述装置本体的外壁设置有保温棉层,所述装置本体的一侧设置有动力机构,且动力机构内部的顶端安装有电机,所述电机的底端设置有转轴,所述装置本体的两侧内壁之间设置有支撑杆,所述支撑杆底端的两侧均安装有加热块,所述空腔内部顶端的两侧均安装有温度传感器,所述空腔内部的底端安装有第二搅拌轴,且第二搅拌轴上方的外壁均匀设置有第二搅拌叶。
本实用新型通过在空腔内部的底端安装有第二搅拌轴,且第二搅拌轴上方的外壁均匀设置有第二搅拌叶,通过第二搅拌叶对反应液进行搅拌,避免沉淀,从而使箔腐蚀更加均匀。

专利状态

基础信息

专利号
CN202020446190.0
申请日
2020-03-31
公开日
2020-11-17
公开号
CN211947282U
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

郭鑫鑫

申请人

河南华荣电子材料有限公司

申请人地址

476000 河南省商丘市永城市产业集聚区光明路南科源大道东(经营地址:永城市酇阳创业园)

专利摘要

本实用新型公开了一种用于腐蚀箔生产的新型反应槽,包括装置本体、转轴和温度传感器,所述装置本体的外壁设置有保温棉层,所述装置本体的一侧设置有动力机构,且动力机构内部的顶端安装有电机,所述电机的底端设置有转轴,所述装置本体的两侧内壁之间设置有支撑杆,所述支撑杆底端的两侧均安装有加热块,所述空腔内部顶端的两侧均安装有温度传感器,所述空腔内部的底端安装有第二搅拌轴,且第二搅拌轴上方的外壁均匀设置有第二搅拌叶。
本实用新型通过在空腔内部的底端安装有第二搅拌轴,且第二搅拌轴上方的外壁均匀设置有第二搅拌叶,通过第二搅拌叶对反应液进行搅拌,避免沉淀,从而使箔腐蚀更加均匀。

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