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专利摘要

提供了一种形成光子晶体材料膜的方法。
对能够具有光子晶体结构的材料实施第一过程,该过程使材料变形,从而形成这样的膜,其中由该材料所接收的入射光被选择性地反射或透射从而在该膜中产生第一光学效应。
对基本上整个膜实施第二过程,该过程对所述膜施加剪切应力。
这导致材料结构的改变,从而响应于入射光在该膜内产生不同于所述第一光学效应的第二光学效应。
还论述了使用所述方法形成的安全膜、器件、制品和文件。

专利状态

基础信息

专利号
CN201080039842.8
申请日
2010-07-07
公开日
2018-01-23
公开号
CN102481723B
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

G·瓦尔普斯 G·P·海尔曼 P·W·A·斯潘

申请人

德拉鲁国际有限公司

申请人地址

英国汉普郡

专利摘要

提供了一种形成光子晶体材料膜的方法。
对能够具有光子晶体结构的材料实施第一过程,该过程使材料变形,从而形成这样的膜,其中由该材料所接收的入射光被选择性地反射或透射从而在该膜中产生第一光学效应。
对基本上整个膜实施第二过程,该过程对所述膜施加剪切应力。
这导致材料结构的改变,从而响应于入射光在该膜内产生不同于所述第一光学效应的第二光学效应。
还论述了使用所述方法形成的安全膜、器件、制品和文件。

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