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专利摘要

本发明涉及一种二维过渡金属硫族化合物晶体及其制备方法和用途,所述制备方法包括如下步骤:(1)在加热装置中,沿着气流方向依次放置硫族单质源和过渡金属氧化物源;所述过渡金属氧化物源的表面覆盖有分子筛;所述过渡金属氧化物源的上方放置有生长基底;(2)向所述加热装置中通入保护性气体,升温至所述过渡金属氧化物源的温度达到化学气相沉积温度、硫族单质源的温度达到单质挥发温度,进行化学气相沉积,得到所述二维过渡金属硫族化合物晶体。
通过本发明的方法能够制备得到大面积、均匀的单层或多层二维过渡金属硫族化合物晶体,能够用于偏振光电探测或拓扑场效应晶体管。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910666944.5
申请日
2019-07-23
公开日
2019-09-20
公开号
CN110257906A
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

冯晴亮 朱美洁 李萌 郑建邦

申请人

西北工业大学

申请人地址

710072 陕西省西安市碑林区友谊西路127号

专利摘要

本发明涉及一种二维过渡金属硫族化合物晶体及其制备方法和用途,所述制备方法包括如下步骤:(1)在加热装置中,沿着气流方向依次放置硫族单质源和过渡金属氧化物源;所述过渡金属氧化物源的表面覆盖有分子筛;所述过渡金属氧化物源的上方放置有生长基底;(2)向所述加热装置中通入保护性气体,升温至所述过渡金属氧化物源的温度达到化学气相沉积温度、硫族单质源的温度达到单质挥发温度,进行化学气相沉积,得到所述二维过渡金属硫族化合物晶体。
通过本发明的方法能够制备得到大面积、均匀的单层或多层二维过渡金属硫族化合物晶体,能够用于偏振光电探测或拓扑场效应晶体管。

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