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一种基于矢量场变化的复杂曲面共形阵列散射场确定方法

申请号: CN202410098458.9
申请人: 南京理工大学
申请日期: 2024/1/24

摘要文本

本发明公开了一种基于矢量场变化的复杂曲面共形阵列散射场确定方法,该方法为:利用积分方程获得阵元结构的周期矩量法阻抗矩阵,建立广义特征方程,提取阵元结构的特征模式;然后根据各阵元在共形阵列中所处的位置,计算出入射电磁波法向照射时相对于阵元的入射角度,利用特征模式作为全域基快速计算相应的阵元方向图;利用欧拉旋转矩阵对提取的阵元方向图进行所处坐标系的变换,将阵元方向图所处的局部坐标系变换为共形阵列所处的全局坐标系,并进行矢量场变换;利用远场叠加原理,对于进行坐标系变换后的各阵元方向图进行矢量叠加,计算得到复杂曲面共形阵列的散射场。本发明提高了复杂曲面共形阵列散射场的计算效率和计算精度。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种基于矢量场变化的复杂曲面共形阵列散射场确定方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410098458.9
申请日 2024/1/24
公告号 CN117610323A
公开日 2024/2/27
IPC主分类号 G06F30/20
权利人 南京理工大学
发明人 李猛猛; 宁子豪; 丁大志; 洪宏展; 王雅熹; 陈凌宇; 卢其然; 张琪; 李书晗; 郭丰源
地址 江苏省南京市玄武区孝陵卫街道孝陵卫街200号

专利主权项内容

1.一种基于矢量场变化的复杂曲面共形阵列散射场确定方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、利用积分方程获得阵元结构的周期矩量法阻抗矩阵,建立广义特征方程,提取阵元结构的特征模式;步骤2、根据各阵元在共形阵列中所处的位置,计算出入射电磁波法向照射时相对于阵元的入射角度,利用特征模式作为全域基快速计算相应的阵元方向图;步骤3、利用欧拉旋转矩阵对提取的阵元方向图进行所处坐标系的变换,将阵元方向图所处的局部坐标系变换为共形阵列所处的全局坐标系,并进行矢量场变换;步骤4、利用远场叠加原理,对于进行坐标系变换后的各阵元方向图进行矢量叠加,计算得到复杂曲面共形阵列的散射场。