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一种气相法边缘蚀刻装置

申请号: CN202420601316.5
申请人: 郑州合晶硅材料有限公司
更新日期: 2026-04-22

摘要文本

郑州合晶硅材料有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型公开了一种气相法边缘蚀刻装置,包括下腔体和上腔体;下腔体上设有下放置槽,下放置槽内设有硅片定位件和下隔板;上腔体上对应设有上放置槽,上放置槽内设有与上隔板;当下腔体和上腔体闭合时,下放置槽和上放置槽之间形成用于放置待蚀刻硅片的空间,上隔板和下隔板分别与待蚀刻硅片的上、下表面接触,并将空间分隔为中心非蚀刻区和边缘蚀刻区,边缘蚀刻区设有进气孔和出气孔,进气孔用于向边缘蚀刻区通入蚀刻气体,出气孔用于排出蚀刻后气体。本申请解决了传统边缘蚀刻后背面LTO边缘形貌及贴膜table对硅片正面造成损伤的问题,使得硅片在边缘蚀刻过程中的背面LTO边缘形貌、微刮伤及良率得到有效改善。

专利主权项内容

1.一种气相法边缘蚀刻装置,其特征在于,包括能够连接闭合的下腔体和上腔体;所述下腔体上设有下放置槽,所述下放置槽内设有硅片定位件和下隔板;所述上腔体上对应设有上放置槽,所述上放置槽内设有与所述下隔板对应的上隔板;
当所述下腔体和所述上腔体闭合时,所述下放置槽和所述上放置槽之间形成用于放置待蚀刻硅片的空间,所述上隔板和所述下隔板分别与所述待蚀刻硅片的上、下表面接触,并将所述空间分隔为中心非蚀刻区和边缘蚀刻区,所述边缘蚀刻区设有进气孔和出气孔,所述进气孔用于向所述边缘蚀刻区通入蚀刻气体,所述出气孔用于排出蚀刻后气体。

专利申请信息

项目 内容
专利名称 一种气相法边缘蚀刻装置
专利类型 实用新型
申请号 CN202420601316.5
申请日 2024/3/27
公告号 CN222071889U
公开日 2024/11/26
IPC主分类号 H01L21/67
权利人 郑州合晶硅材料有限公司
发明人 吴泓明; 钟佑生; 黄郁璿; 孙楠; 何郁璞; 耿帆
地址 河南省郑州市郑州航空港经济综合实验区规划工业四路以南、华夏大道以西