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半导体工艺腔室及半导体工艺设备
摘要文本
北京北方华创微电子装备有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术，本申请实施例提供了一种半导体工艺腔室及半导体工艺设备，其中，所述半导体工艺腔室包括：腔室外壁，半导体工艺腔室设有等离子放电腔；腔室外壁围设于等离子放电腔外，腔室外壁设有第一穿孔，第一穿孔内设有封堵第一穿孔的第一导光柱，第一导光柱用于透射出等离子放电腔内的光线，第一导光柱的背离半导体工艺腔室的一侧设有聚光透镜。该半导体工艺腔室能够基于等离子放电腔的辉光确定起辉状态。
专利主权项内容
1.一种半导体工艺腔室(110)，其特征在于，包括：腔室外壁(111)，所述半导体工艺腔室(110)设有等离子放电腔(112)；
所述腔室外壁(111)围设于所述等离子放电腔(112)外，所述腔室外壁(111)设有第一穿孔(1111)，所述第一穿孔(1111)内设有封堵所述第一穿孔(1111)的第一导光柱(1112)，所述第一导光柱(1112)用于透射出所述等离子放电腔(112)内的光线，所述第一导光柱(1112)的背离所述半导体工艺腔室(110)的一侧设有聚光透镜(1113)。
专利申请信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 半导体工艺腔室及半导体工艺设备 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420016871.1 |
| 申请日 | 2024/1/3 |
| 公告号 | CN222233577U |
| 公开日 | 2024/12/24 |
| IPC主分类号 | H01L21/67 |
| 权利人 | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 发明人 | 翟浩; 任晓艳; 张璐; 魏延宝; 王歆銘 |
| 地址 | 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 |