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一种沟槽型半导体器件
摘要文本
世创微(福建)电子有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型公开了一种沟槽型半导体器件。该器件包括:衬底;设置于衬底一侧的沟道层,沟道层包括下凹部,沿衬底垂直指向沟道层的方向,下凹部的宽度逐渐增加;其中,下凹部的侧壁为沟道材料的半极性晶面;势垒层,势垒层位于沟道层背离衬底的一侧,沟道层与势垒层之间形成有二维电子气层。采用上述方案,可保证沟槽侧壁处的二维电子气的形成效果,增强沟槽侧壁处二维电子气的浓度,进而降低器件的导通电阻,提高正向导通率,同时兼顾器件的击穿电压。另外,设置沟槽侧壁为半极性晶面,也有利于提升沟道层之上膜层的外延生长质量,保证沟道层与势垒层相接面的平整性,进而降低二维电子气传输过程的晶格散射,提升器件整体性能。
专利主权项内容
1.一种沟槽型半导体器件,其特征在于,包括:
衬底;
设置于所述衬底一侧的沟道层,所述沟道层包括下凹部,沿所述衬底垂直指向所述沟道层的方向,所述下凹部的宽度逐渐增加;其中,所述下凹部的侧壁为沟道材料的半极性晶面;
势垒层,所述势垒层位于所述沟道层背离所述衬底的一侧,所述沟道层与所述势垒层之间形成有二维电子气层。。 (来自)
专利申请信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种沟槽型半导体器件 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420278127.9 |
| 申请日 | 2024/2/5 |
| 公告号 | CN222233642U |
| 公开日 | 2024/12/24 |
| IPC主分类号 | H01L29/778 |
| 权利人 | 世创微(福建)电子有限公司 |
| 发明人 | 方照诒; 黄博崇; 游正璋 |
| 地址 |