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不对称式SiC耐压MOSFET器件
摘要文本
合肥矽普半导体科技有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型公开了一种不对称式SiC耐压MOSFET器件,包括:一外延层、一体区、一第一导电类型有源区和两间隔一定距离的沟槽。其中,体区位于外延层上方,有源区位于体区上方,沟槽的底部位于外延层内,沟槽向上延伸穿过体区直到第一导电类型有源区内,两沟槽的一拐角外侧有第二导电类型有源区。故相邻的沟槽之间掺杂区不对称,使得在形成离子通道的时候,在沟槽的拐角处不会形成很大的电场强度,进而不会将击穿沟槽。
专利主权项内容
1.一种不对称式SiC耐压MOSFET器件,其特征在于,所述不对称式SiC耐压MOSFET器件包括:
一外延层;
一体区,所述体区位于所述外延层上方;
一第一导电类型有源区,所述有源区位于所述体区上方;
两间隔一定距离的沟槽,所述沟槽的底部位于所述外延层内,所述沟槽向上延伸穿过所述体区直到所述第一导电类型有源区内,所述两沟槽的一拐角外侧有第二导电类型有源区。
专利申请信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 不对称式SiC耐压MOSFET器件 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202323423355.5 |
| 申请日 | 2023/12/15 |
| 公告号 | CN222146233U |
| 公开日 | 2024/12/10 |
| IPC主分类号 | H01L27/092 |
| 权利人 | 合肥矽普半导体科技有限公司 |
| 发明人 | 陈志鹏; 高盼盼; 覃源 |
| 地址 | 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F1-706 |