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抛光设备的清洁装置和抛光设备
申请人信息
- 申请人:铭扬半导体科技(合肥)有限公司
- 申请人地址:230088 安徽省合肥市高新区望江西路5515号汇景城市中心C栋1810
- 发明人: 铭扬半导体科技(合肥)有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 抛光设备的清洁装置和抛光设备 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202323087113.3 |
| 申请日 | 2023/11/16 |
| 公告号 | CN220427943U |
| 公开日 | 2024/2/2 |
| IPC主分类号 | B24B29/02 |
| 权利人 | 铭扬半导体科技(合肥)有限公司 |
| 发明人 | 黄家剑; 陶秀红 |
| 地址 | 安徽省合肥市高新区望江西路5515号汇景城市中心C栋1810 |
摘要文本
本实用新型公开了一种抛光设备的清洁装置和抛光设备，抛光设备的清洁装置包括：主框架；抛头，橡胶膜设置于凹槽内，橡胶膜与凹槽的周向内壁间隔设置；清洁组件，清洁件与抛头主体的侧壁相对应；且清洁件与橡胶膜的底面相对应；且清洁件与橡胶膜和凹槽的周向内壁之间的缝隙相对应。由此，通过将清洁件与抛头主体的侧壁相对应，以及将清洁件与橡胶膜的底面相对应，以及将清洁件与橡胶膜和凹槽的周向内壁之间的缝隙相对应，可以使清洁件对抛头的清洁更加全面，防止抛头存在不易被清洁的死角位置残留抛光液腐蚀抛头，并且将储液件与纯水和清洁液选择性地连通，可以实现用清洁液和纯水对抛头的清洁的切换，可以使清洁装置对抛头的清洁效果更佳。
专利主权项内容
1.一种抛光设备的清洁装置，其特征在于，包括：主框架；抛头(20)，所述抛头(20)设置于主框架且包括抛头主体(21)和橡胶膜(22)，所述抛头主体(21)的底部设置有凹槽(211)，所述橡胶膜(22)设置于所述凹槽(211)内，所述橡胶膜(22)与所述凹槽(211)的周向内壁间隔设置；清洁组件(30)，所述清洁组件(30)设置于主框架且包括储液件(32)和清洁件(31)，所述储液件(32)用于与纯水或清洁液相连通，所述清洁件(31)与所述储液件(32)相连通，所述清洁件(31)与所述抛头主体(21)的侧壁相对应，以清洗所述抛头主体(21)的侧壁；且所述清洁件(31)与所述橡胶膜(22)的底面相对应，以清洗所述橡胶膜(22)的底面；且所述清洁件(31)与所述橡胶膜(22)和所述凹槽(211)的周向内壁之间的缝隙相对应，以清洗所述橡胶膜(22)和所述凹槽(211)的周向内壁之间的缝隙。