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一种纳米压印光刻的图像处理方法
申请人信息
- 申请人:青岛天仁微纳科技有限责任公司
- 申请人地址:266000 山东省青岛市城阳区城阳街道祥阳路106号青岛未来科技产业园6号厂房
- 发明人: 青岛天仁微纳科技有限责任公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种纳米压印光刻的图像处理方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311785282.6 |
| 申请日 | 2023/12/25 |
| 公告号 | CN117495722A |
| 公开日 | 2024/2/2 |
| IPC主分类号 | G06T5/73 |
| 权利人 | 青岛天仁微纳科技有限责任公司 |
| 发明人 | 冀然; 房臣 |
| 地址 | 山东省青岛市城阳区城阳街道祥阳路106号青岛未来科技产业园6号厂房 |
摘要文本
本发明公开了一种纳米压印光刻的图像处理方法，属于图像处理技术领域，包括以下步骤：S1、获取压印光刻工作过程中被刻衬底的工作图像，对被刻衬底的工作图像进行预处理，生成被刻衬底的待处理图像；S2、确定被刻衬底的待处理图像的模糊像素点集合；S3、对模糊像素点集合进行亮度处理，完成图像处理。本发明对被刻衬底的工作图像进行像素点筛选，确定像素值异常的像素点，即模糊像素点集合，对模糊像素点集合的元素进行亮度处理，提高图像的清晰度，便于用户在观察衬底图像时及时发现异常，提高纳米压印光刻技术。
专利主权项内容
1.一种纳米压印光刻的图像处理方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、获取压印光刻工作过程中被刻衬底的工作图像，对被刻衬底的工作图像进行预处理，生成被刻衬底的待处理图像；S2、确定被刻衬底的待处理图像的模糊像素点集合；S3、对模糊像素点集合进行亮度处理，完成图像处理。 关注微信公众号马克数据网