一种等离子体处理设备及方法

专利主权项内容

1.一种等离子体处理设备，其特征在于，包括箱体、承载传输机构、密封机构和通气机构；所述承载传输机构包括载体滑板和基片放置槽；所述载体滑板贯穿所述箱体的侧壁，且所述载体滑板在所述箱体内至所述箱体外之间进行往复运动；所述载体滑板上端开设所述基片放置槽；所述密封机构包括密封闸板和条形密封槽，所述条形密封槽设置在所述载体滑板上，所述密封闸板设置在所述箱体外壁上，所述密封闸板卡入所述条形密封槽内并与所述条形密封槽密封连接；所述通气机构包括气体通道、吹风管、引风管和吸尘孔，所述吸尘孔设置在所述基片放置槽上且与所述气体通道连通；所述气体通道设置在所述载体滑板内部，所述气体通道包括第一导气通道、第二导气通道和导气腔，所述第一导气通道、所述导气腔和所述第二导气通道依次连通；所述吹风管设置在所述箱体外且与所述第一导气通道连通，所述引风管设置在所述箱体外且与所述第二导气通道连通。