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一种高效N型背接触太阳能电池制备工艺

申请号: CN202311834474.1
申请人: 江苏凌众新能科技有限公司; 马鞍山凌众新能科技有限公司
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种高效N型背接触太阳能电池制备工艺
专利类型 发明申请
申请号 CN202311834474.1
申请日 2023/12/28
公告号 CN117712229A
公开日 2024/3/15
IPC主分类号 H01L31/18
权利人 江苏凌众新能科技有限公司; 马鞍山凌众新能科技有限公司
发明人 王伟; 江俊杰; 杨伟锋; 吴仕梁
地址 江苏省南京市江宁区秣陵街道胜利路91号昂鹰大厦8楼;

摘要文本

本发明公开一种高效N型背接触电池的制备工艺,对N型硅片进行双面抛光处理;在高温炉管中进行硼扩散,形成p+层;对非硼扩散面进行单面制绒;对制绒面进行磷扩散;清洗去除硅片正背面PSG/BSG层;在高温炉中进行热氧化;正面进行氮化硅沉积,背面进行氧化铝膜沉积,叠加氮化硅;背面局部采用激光进行N区图形化,形成P/N叉指装交错图形,随后在碱液中将激光的N区刻蚀抛光;在背面通过气体种类和流量的控制依次进行氧化硅、掺杂多晶硅层的沉积;在碱液中刻蚀去掉正面绕度;对背面进行氮化硅层架;背面P区进行氮化硅/掺杂多晶硅层的开膜;将P区印刷银铝浆,N区印刷银浆。本发明实现了P区和N区的不同钝化膜结构,使得钝化效果最大化,提升电池效率。

专利主权项内容

1.一种高效N型背接触电池的制备工艺,其特征在于,包括如下步骤:步骤1,对N型硅片,进行双面抛光处理;步骤2,在高温炉管中对N型硅片进行硼扩散,形成p层;+步骤3,对N型硅片的非硼扩散面进行单面制绒;步骤4,对N型硅片的制绒面进行磷扩散;步骤5,清洗去除N型硅片正背面PSG/BSG层;步骤6,将N型硅片在高温炉中进行热氧化;步骤7,对N型硅片的正面进行氮化硅沉积,背面进行氧化铝膜沉积,叠加氮化硅;步骤8,对N型硅片的背面局部采用激光进行N区图形化,形成P/N叉指装交错图形,随后在碱液中将激光的N区刻蚀抛光;步骤9,在N型硅片的背面通过气体种类和流量的控制依次进行氧化硅、掺杂多晶硅层的沉积;步骤10,在碱液中刻蚀去掉N型硅片正面绕度;步骤11,对N型硅片的背面进行氮化硅层架;步骤12,对N型硅片背面P区进行氮化硅/掺杂多晶硅层的开膜;步骤13,将N型硅片的P区印刷银铝浆,N区印刷银浆。