一种粗化ITO膜层制备装置及制备方法

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本发明公开了一种粗化ITO膜层制备装置，包括腔体，腔体内部设有离子枪、坩埚、镀锅、加热组件和五组氩气供应组件，镀锅位于坩埚的上方，加热组件设于镀锅外周的腔体内壁上，离子枪位于坩埚及五组氩气供应组件的一侧，五组氩气分节供应组件均匀间隔分布于坩埚的外周，每组氩气供应组件包括氩气供气管、控制氩气供气管气体流量的气管开关、磁场线圈和控制线圈电流启闭的线圈开关，每个氩气供气管均与外界氩气源连接，且其出气口均朝向坩埚中心位置设置。采用本发明粗化ITO膜层制备方法，相较于常规方法更加方便快捷，制备的粗化ITO膜层稳定性好、厚度可控，减少了物料、设备等成本浪费。