← 返回列表

一种光轴中心测试方法

申请号: CN202410076224.4
申请人: 深圳北醒科技有限公司
更新日期: 2026-03-17

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种光轴中心测试方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410076224.4
申请日 2024/1/18
公告号 CN117590361A
公开日 2024/2/23
IPC主分类号 G01S7/497
权利人 深圳北醒科技有限公司
发明人 尹涛; 尹延博; 张弛
地址 广东省深圳市宝安区新安街道兴东社区71区南天辉创研中心616

摘要文本

本发明公开了一种光轴中心测试方法,通过测试治具上的光轴中心标定工装与光斑相机对准,开启光轴中心标定工装时调节光斑相机使光轴中心标定工装发出的光在光斑相机的靶面上形成正圆光斑,将该正圆光斑的中心设定为标准位置,然后取下光轴中心标定工装将待测发射模组安装到测试治具上之前安装光轴中心标定工装的区域,开启待测发射模组后即可通过读取待测发射模组发出的光在靶面上形成的光斑中心与标准位置之间的偏差来确定待测发射模组的光轴中心是否准确以及实际偏差量,以排除偏差量不满足要求的发射模组,防止光轴中心偏差过大导致激光雷达的性能损失,此外确定的光轴中心数据可作为过程控制的依据,有利于生产过程中的调整,提高制程能力。

专利主权项内容

1.一种光轴中心测试方法,其特征在于,包括:将光斑相机与测试治具上的光轴中心标定工装对准;开启所述光轴中心标定工装;调节所述光斑相机,使所述光轴中心标定工装发出的光照射在所述光斑相机的靶面上形成正圆光斑,设定该正圆光斑的中心为标准位置;取下所述光轴中心标定工装并将待测发射模组安装到测试治具上;开启所述待测发射模组,读取所述待测发射模发出的光照射至所述靶面上形成的光斑中心与所述标准位置之间的偏差。