激光脉冲能量控制系统及方法
申请人信息
- 申请人:深圳市智鼎自动化技术有限公司
- 申请人地址:518000 广东省深圳市宝安区新安街道兴东社区68区美生创谷二期慧谷501A室
- 发明人: 深圳市智鼎自动化技术有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 激光脉冲能量控制系统及方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410202720.X |
| 申请日 | 2024/2/23 |
| 公告号 | CN117791287A |
| 公开日 | 2024/3/29 |
| IPC主分类号 | H01S3/13 |
| 权利人 | 深圳市智鼎自动化技术有限公司 |
| 发明人 | 陈磊; 蒋榕; 苏飞 |
| 地址 | 广东省深圳市宝安区新安街道兴东社区68区美生创谷二期慧谷501A室 |
摘要文本
本发明涉及一种激光脉冲能量控制系统及方法，属于激光脉冲能量控制技术领域。包括激光源、光学调节模块、控制模块和能量监测模块；激光源和能量监测模块均与控制模块通信连接，能量监测模块与激光源电性连接；控制模块，用于监测和控制激光脉冲能量的控制系统，通过实时监测激光脉冲的能量，并根据需求值进行调整和控制；控制模块包括微处理器、控制算法和用户界面。本发明通过对高重频准分子激光器的能量稳定性和剂量精度分别构建控制算法，实现了能量的单脉冲控制，对于调整的放电高压最终的设定值依据建立的目标函数通过遗传算法进行求解，加入了激光器的电压调节范围和热效应的问题求解，进一步提高了能量稳定性和剂量精度。
专利主权项内容
1.一种激光脉冲能量控制系统，其特征在于：包括激光源、光学调节模块、控制模块和能量监测模块；所述激光源和能量监测模块均与控制模块通信连接，所述能量监测模块与激光源电性连接；所述控制模块，用于监测和控制激光脉冲能量的控制系统，通过实时监测激光脉冲的能量，并根据需求值进行调整和控制；所述控制模块包括微处理器、控制算法和用户界面；所述控制算法包括以下步骤：S1、将脉冲能量的控制分为超调部分和非超调部分；S2、对于超调部分通过PI控制算法计算激光脉冲所需要设定的放电高压值；S3、对于非超调部分通过PI控制算法计算激光脉冲所需要设定的放电高压值；S4、对于剂量精度采用PI控制算法计算激光脉冲能量所设定的放电高压值；S5、通过能量和剂量所需设定的放电高压值以及放电高压引起的激光器温度变化值设计优化算法的目标函数，表示为：F=wHV+wHV-wHV；1Em, i2Dm, i3Te式中，HV为能量值所需设定的放电高压值，HV为剂量值所需设定的放电高压值，HV为温度控制调节的电压值；w、w、w为权重系数，且w+w+w=1；Em, iDm, iTe123123S6、采用遗传算法求解目标函数。