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一种碳化硅单晶的生长装置及生长方法

申请号: CN202410205388.2
申请人: 苏州优晶半导体科技股份有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种碳化硅单晶的生长装置及生长方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410205388.2
申请日 2024/2/26
公告号 CN117779180A
公开日 2024/3/29
IPC主分类号 C30B23/00
权利人 苏州优晶半导体科技股份有限公司
发明人 蔡金荣; 陈建明; 赵文超; 杨洪雨; 范子龙
地址 江苏省苏州市昆山市开发区杜鹃路555号A6#厂房

摘要文本

本发明属于碳化硅晶体生长技术领域,具体涉及一种碳化硅单晶的生长装置及生长方法。生长装置包括坩埚部,其包括周向设置的坩埚壁,坩埚壁围绕形成的空腔包括自上而下设置的生长仓和储料仓;加热部,其沿生长仓的外侧的周向设置;坩埚套筒,其包括坩埚套筒壁和坩埚套筒底,坩埚套筒壁套设于坩埚壁的外部,坩埚套筒壁相对坩埚壁升降运动;柱塞,其设置于坩埚套筒底的上部并与坩埚套筒底固定连接,其顶部套设在储料仓的坩埚壁的内部,其与储料仓的坩埚壁内壁滑动配合;坩埚盖,其盖于坩埚套筒的上方,其与坩埚套筒壁固定连接,其下部用于安装籽晶;升降机构,其设置于坩埚盖的上部,生长装置的使用能向生长仓中补充原料,生长出大尺寸的碳化硅单晶。

专利主权项内容

1.一种碳化硅单晶的生长装置,其特征在于,包括:坩埚部(1),其包括周向设置的坩埚壁,所述坩埚壁围绕形成的空腔包括生长仓(101)和储料仓(102),所述储料仓(102)位于所述生长仓(101)的下方,所述储料仓(102)的上部与所述生长仓(101)的下部相连通;加热部(2),其设置在所述生长仓(101)的外侧,其沿所述生长仓(101)的周向设置;坩埚套筒(3),其包括坩埚套筒壁(301)和坩埚套筒底(302),所述坩埚套筒壁(301)套设于所述坩埚壁的外部,所述坩埚套筒壁(301)相对所述坩埚壁升降运动;柱塞(4),其设置于所述坩埚套筒底(302)的上部并与所述坩埚套筒底(302)固定连接,其顶部套设在所述储料仓(102)的坩埚壁的内部,其与所述储料仓(102)的坩埚壁内壁滑动配合;坩埚盖(5),其盖于所述坩埚套筒(3)的上方,其与所述坩埚套筒壁(301)固定连接,其下部用于安装籽晶;升降机构(6),其设置于所述坩埚盖(5)的上部,其能驱动所述坩埚盖(5)带动所述坩埚套筒(3)以及所述柱塞(4)作相对于所述储料仓(102)的所述坩埚壁的升降运动。