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蒸发镀膜设备
申请人信息
- 申请人:安迈特科技(北京)有限公司
- 申请人地址:102400 北京市房山区弘安路87号院5号楼2层222室
- 发明人: 安迈特科技(北京)有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 蒸发镀膜设备 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202322777174.6 |
| 申请日 | 2023/10/16 |
| 公告号 | CN222119378U |
| 公开日 | 2024/12/6 |
| IPC主分类号 | C23C14/56 |
| 权利人 | 安迈特科技(北京)有限公司 |
| 发明人 | 孙欣森; 张健; 王超; 康远浩; 何全友 |
| 地址 | 北京市房山区弘安路87号院5号楼2层222室 |
摘要文本
本公开提供了一种蒸发镀膜设备，包括：冷却辊，在所述冷却辊表面喷涂陶瓷涂层，所述陶瓷涂层包括绝缘性材料和导电性材料的混合物；导向辊，位于所述冷却辊的上游或下游，所述导向辊施加与所述冷却辊相反的电压；蒸镀装置，用于向承载于所述冷却辊的待镀膜基材蒸镀导电层；其中，响应于所述导电层蒸镀至所述待镀膜基材，所述导电层在库仑力作用下紧密吸附于所述冷却辊。
专利主权项内容
1.一种蒸发镀膜设备，其特征在于，包括：
冷却辊，在所述冷却辊表面喷涂陶瓷涂层，所述陶瓷涂层包括绝缘性材料和导电性材料的混合物；
导向辊，位于所述冷却辊的上游或下游，所述导向辊施加与所述冷却辊相反的电压；
蒸镀装置，用于向承载于所述冷却辊的待镀膜基材蒸镀导电层；
其中，响应于所述导电层蒸镀至所述待镀膜基材，所述导电层在库仑力作用下紧密吸附于所述冷却辊。