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专利摘要

本发明公开了一种带式抛光垫,包括传动轴、联动轴和皮带式研磨剂,所述皮带式研磨剂为具有履带的带状结构,在带内部的两端形成有使带旋转的传动轴和使带旋转时联动的联动轴,所述皮带式研磨剂的表面均匀地布置以排出浆料的孔,所述皮带式研磨剂由氨基甲酸乙酯(Urethan)材质的树脂(resin)和氧化锆(ZrO2)磨料混合并成型,本发明提出的带式抛光垫通过增加与固定或粘附的异物的摩擦力来提高清洁能力,其具有防止去除的异物在PAD转移的作用,此外,皮带的材料由树脂和磨料制成,并在磨料是施加氧化锆(ZrO2),使陶瓷的脆性以通过微调结构具有接近于金属的韧性,并且折射率大,它具有增加高强度,热稳定性和高耐腐蚀性的作用。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011061968.7
申请日
2020-09-30
公开日
2021-01-22
公开号
CN112247830A
主分类号
/B/B24/ 作业;运输
标准类别
磨削;抛光
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

胡璐

申请人

南京华易泰电子科技有限公司

申请人地址

210032 江苏省南京市江北新区智能制造园博富路10号

专利摘要

本发明公开了一种带式抛光垫,包括传动轴、联动轴和皮带式研磨剂,所述皮带式研磨剂为具有履带的带状结构,在带内部的两端形成有使带旋转的传动轴和使带旋转时联动的联动轴,所述皮带式研磨剂的表面均匀地布置以排出浆料的孔,所述皮带式研磨剂由氨基甲酸乙酯(Urethan)材质的树脂(resin)和氧化锆(ZrO2)磨料混合并成型,本发明提出的带式抛光垫通过增加与固定或粘附的异物的摩擦力来提高清洁能力,其具有防止去除的异物在PAD转移的作用,此外,皮带的材料由树脂和磨料制成,并在磨料是施加氧化锆(ZrO2),使陶瓷的脆性以通过微调结构具有接近于金属的韧性,并且折射率大,它具有增加高强度,热稳定性和高耐腐蚀性的作用。

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