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专利摘要

本发明涉及纳米技术领域,公开了一种微纳制造装置。
利用模板提供模块提供待形成图案的图案信息。
将衬底固定于运动模块的运动台单元上,通过所述运动模块带动所述衬底按照所述图案信息进行运动。
制造模块在所述衬底上定位至需要形成所述待形成图案的位置,并写入电荷以形成所述待形成图案。
颗粒引入模块在待形成图案所在区域引入纳米颗粒以形成待形成结构。
本发明提供的所述微纳制造装置可以完成从纳米级到厘米级及其以上的微纳结构静电纳米印刷制造,解决了扫描探针技术无法制造大尺度与跨尺度结构的问题,在实现厘米或更大范围内结构写入的同时,保证局部细节的精度在纳米尺度。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011110102.0
申请日
2020-10-16
公开日
2021-01-29
公开号
CN112279215A
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
发明公开

发明人

张伟华 廖佳梁

申请人

南京大学

申请人地址

210000 江苏省南京市鼓楼区汉口路22号

专利摘要

本发明涉及纳米技术领域,公开了一种微纳制造装置。
利用模板提供模块提供待形成图案的图案信息。
将衬底固定于运动模块的运动台单元上,通过所述运动模块带动所述衬底按照所述图案信息进行运动。
制造模块在所述衬底上定位至需要形成所述待形成图案的位置,并写入电荷以形成所述待形成图案。
颗粒引入模块在待形成图案所在区域引入纳米颗粒以形成待形成结构。
本发明提供的所述微纳制造装置可以完成从纳米级到厘米级及其以上的微纳结构静电纳米印刷制造,解决了扫描探针技术无法制造大尺度与跨尺度结构的问题,在实现厘米或更大范围内结构写入的同时,保证局部细节的精度在纳米尺度。

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