目录

专利摘要

说明了一种用于电子器件(例如MEMS、BAW或SAW类型)的覆盖物。
所述覆盖物包括至少一个层(5、6、7),所述层具有带多个凸部(8、9、15)和/或凹部(10、11、16)的结构化部分(19、20、21)。
此外,还提出用于制造这种覆盖物(1)的方法。

专利状态

基础信息

专利号
CN201580053522.0
申请日
2015-08-25
公开日
2017-05-24
公开号
CN106715326A
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-公开

发明人

安斯加尔·朔伊费勒

申请人

追踪有限公司

申请人地址

美国加利福尼亚州

专利摘要

说明了一种用于电子器件(例如MEMS、BAW或SAW类型)的覆盖物。
所述覆盖物包括至少一个层(5、6、7),所述层具有带多个凸部(8、9、15)和/或凹部(10、11、16)的结构化部分(19、20、21)。
此外,还提出用于制造这种覆盖物(1)的方法。

相似专利技术