酸性化学机械抛光组合物以及方法具有增强的缺陷抑制并且在酸性环境中优先于二氧化硅选择性地抛光氮化硅。
所述酸性化学机械抛光组合物包括聚(2‑乙基‑2‑噁唑啉)聚合物、阴离子官能胶体二氧化硅颗粒、胺羧酸并且具有5或更小的pH。

N·K·彭塔 K·E·特泰 M·范汉尼赫姆

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美国特拉华州

酸性化学机械抛光组合物以及方法具有增强的缺陷抑制并且在酸性环境中优先于二氧化硅选择性地抛光氮化硅。
所述酸性化学机械抛光组合物包括聚(2‑乙基‑2‑噁唑啉)聚合物、阴离子官能胶体二氧化硅颗粒、胺羧酸并且具有5或更小的pH。