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专利摘要

公开了一种脉冲直流溅射系统以及方法。
该系统具有等离子体腔室、第一电源和第二电源,该等离子体腔室具有两个靶、两个磁控管和一个阳极。
第一电源耦合到第一磁控管和阳极,并且在每个周期期间在阳极与第一磁控管之间提供具有正电势和负电势的周期性的第一电源电压。
第二电源耦合到第二磁控管和阳极,并且提供周期性的第二电源电压。
控制器对第一电源电压和第二电源电压进行相位同步和控制以施加组合阳极电压,并且使第一磁控管电压与第二磁控管电压相位同步,其中,被施加到阳极的组合阳极电压的幅值为第一磁控管电压和第二磁控管电压的总和的幅值的至少80%。

专利状态

基础信息

专利号
CN201610490917.3
申请日
2016-04-27
公开日
2021-07-13
公开号
CN106119792B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

D·派莱利芒特

申请人

先进工程解决方案全球控股私人有限公司

申请人地址

新加坡新加坡

专利摘要

公开了一种脉冲直流溅射系统以及方法。
该系统具有等离子体腔室、第一电源和第二电源,该等离子体腔室具有两个靶、两个磁控管和一个阳极。
第一电源耦合到第一磁控管和阳极,并且在每个周期期间在阳极与第一磁控管之间提供具有正电势和负电势的周期性的第一电源电压。
第二电源耦合到第二磁控管和阳极,并且提供周期性的第二电源电压。
控制器对第一电源电压和第二电源电压进行相位同步和控制以施加组合阳极电压,并且使第一磁控管电压与第二磁控管电压相位同步,其中,被施加到阳极的组合阳极电压的幅值为第一磁控管电压和第二磁控管电压的总和的幅值的至少80%。

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