本发明公开了一种低浓度P型磷化铟单晶的制备方法,包括以下步骤:S1,对采用VGF法生长单晶时使用的石英管、封帽及氮化硼坩埚进行高温退火处理;S2,采用VGF法生长低浓度P型磷化铟单晶;本发明通过对石英管、封帽及氮化硼坩埚进行高温退火处理,充分去除了石英管、封帽及氮化硼坩埚中的羟基(OH)杂质,从而降低了磷化铟单晶中的氢含量,进而降低了磷化铟单晶中VInH4施主缺陷的浓度。
刘京明 赵有文
珠海鼎泰芯源晶体有限公司
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本发明公开了一种低浓度P型磷化铟单晶的制备方法,包括以下步骤:S1,对采用VGF法生长单晶时使用的石英管、封帽及氮化硼坩埚进行高温退火处理;S2,采用VGF法生长低浓度P型磷化铟单晶;本发明通过对石英管、封帽及氮化硼坩埚进行高温退火处理,充分去除了石英管、封帽及氮化硼坩埚中的羟基(OH)杂质,从而降低了磷化铟单晶中的氢含量,进而降低了磷化铟单晶中VInH4施主缺陷的浓度。