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一种原子层沉积镀膜设备反应过程进气定量定温结构

申请号: CN202420777527.4
申请人: 泽鸿半导体设备科技(苏州)有限公司
更新日期: 2026-04-08

摘要文本

泽鸿半导体设备科技(苏州)有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型提供一种原子层沉积镀膜设备反应过程进气定量定温结构,涉及半导体制造技术领域。该原子层沉积镀膜设备反应过程进气定量定温结构,包括恒温加热器,所述恒温加热器一侧设置有加热器一,所述恒温加热器另一侧设置有加热器二,所述恒温加热器另一侧设置有测温器,所述恒温加热器一侧设置有两个控制阀门,两个所述控制阀门一端均设置有进气阀门通路一,两个所述进气阀门通路一另一端固定有连接管路,所述连接管路另一侧设置有进气管路一。该原子层沉积镀膜设备反应过程进气定量定温结构,通过设置的进气结构将不同反应通路完全分开,做到反应气体的定量定温调控作业,进而达到提高进气结构使用效果的作用。 马 克 团 队

专利主权项内容

1.一种原子层沉积镀膜设备反应过程进气定量定温结构,包括恒温加热器(1),其特征在于:所述恒温加热器(1)一侧设置有加热器一(2),所述恒温加热器(1)另一侧设置有加热器二(3),所述恒温加热器(1)另一侧设置有测温器(4),所述恒温加热器(1)一侧设置有两个控制阀门(5),两个所述控制阀门(5)一端均设置有进气阀门通路一(6),两个所述进气阀门通路一(6)另一端固定有连接管路(7),所述连接管路(7)另一侧设置有进气管路一(8),所述连接管路(7)另一侧设置有进气管路二(9),两个所述控制阀门(5)另一端均设置有进气阀门通路二(10),两个所述进气阀门通路二(10)另一端均开设有进气孔(11),两个所述控制阀门(5)另一端均设置有进气阀门通路三(12),两个所述进气阀门通路三(12)另一端均固定有反应气体源瓶(13)。

专利申请信息

项目 内容
专利名称 一种原子层沉积镀膜设备反应过程进气定量定温结构
专利类型 实用新型
申请号 CN202420777527.4
申请日 2024/4/16
公告号 CN222082890U
公开日 2024/11/29
IPC主分类号 C23C16/455
权利人 泽鸿半导体设备科技(苏州)有限公司
发明人 李祥明; 朱大军; 刘晓涵
地址 江苏省苏州市吴中区木渎镇珠江南路888号科技创业园3号楼3120室