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一种真空吸附旋转平台

申请号: CN202420786990.5
申请人: 杭州美迪凯微电子有限公司
更新日期: 2026-04-25

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种真空吸附旋转平台
专利类型 实用新型
申请号 CN202420786990.5
申请日 2024/4/16
公告号 CN222051735U
公开日 2024/11/22
IPC主分类号 H01L21/683
权利人 杭州美迪凯微电子有限公司
发明人 朱双信; 陈攀登
地址 浙江省杭州市钱塘区白杨街道21号大街与12号大街交叉口西北角

摘要文本

杭州美迪凯微电子有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术, 。本实用新型公开了一种真空吸附旋转平台,包括底板,所述底板上设置有两支撑侧板,两支撑侧板之间转动连接有真空平板,真空平板两端连接有转轴,通过转轴与两支撑侧板转动连接,真空平板上均匀分布有真空吸附孔,真空平板内设置有真空吸附通道,真空吸附孔连通真空吸附通道,转轴末端连通有气路接口,气路接口内侧连通真空吸附通道,气路接口外侧连通抽真空设备。本实用新型用于辅助工作人员在封装涂覆保护膜后快速去除硅胶垫和隔离膜,且不会对芯片造成损害,同时大幅提升去除硅胶垫和隔离膜的效率,提升产品的良率,且辅助夹具制造方便。

专利主权项内容

1.一种真空吸附旋转平台,包括底板,其特征是,所述底板上设置有两支撑侧板,两支撑侧板之间转动连接有真空平板,真空平板两端连接有转轴,通过转轴与两支撑侧板转动连接,真空平板上均匀分布有真空吸附孔,真空平板内设置有真空吸附通道,真空吸附孔连通真空吸附通道,转轴末端连通有气路接口,气路接口内侧连通真空吸附通道,气路接口外侧连通抽真空设备。