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外延工艺装置
申请人信息
- 申请人:上海集成电路研发中心有限公司
- 申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号
- 发明人: 上海集成电路研发中心有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 外延工艺装置 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202323395219.X |
| 申请日 | 2023/12/12 |
| 公告号 | CN222226647U |
| 公开日 | 2024/12/24 |
| IPC主分类号 | C30B29/06 |
| 权利人 | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 发明人 | 卢梓枫 |
| 地址 | 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号 |
摘要文本
上海集成电路研发中心有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术，本实用新型提供了一种外延工艺装置，包括封闭式反应腔室、与所述封闭式反应腔室的内壁连接的补光灯组、以及依次设置于所述补光灯组下方的承载基座和基座支撑件，所述补光灯组用于为所述承载基座上的硅片边缘区域提供温差补偿。本实用新型解决了现有装置对硅片边缘区域的薄膜生长厚度难以进行精准调控的问题。
专利主权项内容
1.一种外延工艺装置，其特征在于，包括封闭式反应腔室、与所述封闭式反应腔室的内壁连接的补光灯组、以及依次设置于所述补光灯组下方的承载基座和基座支撑件，所述补光灯组用于为所述承载基座上的硅片边缘区域提供温差补偿。