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一种原子级精度的CVD设备压力自动控制方法及系统
申请人信息
- 申请人:浙江大学
- 申请人地址:310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
- 发明人: 浙江大学
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种原子级精度的CVD设备压力自动控制方法及系统 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410122780.0 |
| 申请日 | 2024/1/30 |
| 公告号 | CN117646198A |
| 公开日 | 2024/3/5 |
| IPC主分类号 | C23C16/52 |
| 权利人 | 浙江大学 |
| 发明人 | 项荣; 王凌峰; 马亦诚; 郑一格 |
| 地址 | 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号 |
摘要文本
本发明公开了一种原子级精度的CVD设备压力自动控制方法及系统，属于半导体制造技术领域。该方法通过在薄膜沉积过程中引入蝶阀经验开启角度，能够快速的接近目标压力，大大提高响应时间。而且可以在很大程度上避免自动调节程序失效的概率，对于高压力调节(>20kPa)直接调节很容易出现自动调节失效的情况，导致压力跑崩，而本申请引入经验值可以迅速达到目标压力附近，避免大角度调节。进一步的，本申请通过针对不同的压力值，采用周期性非连续角度控制算法和连续角度控制算法两种不同的算法进行自动控制，能够达到较高的控制精度，而且可以避免压力长时间内的波动。
专利主权项内容
1.一种原子级精度的CVD设备压力自动控制方法，其特征在于，所述方法基于压力计、蝶阀和步进电机实现，所述方法包括：步骤1，获取薄膜沉积过程所需的温度以及气体流量；步骤2，获取在所述气体流量下对应各个温度的角度-压力经验曲线和角度-速率经验曲线；所述角度-压力经验曲线即压力随蝶阀开启角度的变化曲线，所述角度-速率经验曲线即压力变化速率随蝶阀开启角度的变化曲线；步骤3，确定薄膜沉积过程各阶段所需的目标压力，读取当前气体流量和温度并根据所述角度-压力经验曲线确定各阶段所需的目标压力对应的蝶阀经验开启角度；步骤4，针对薄膜沉积过程各阶段的压力控制，快速调节蝶阀至经验开启角度，根据蝶阀开启经验角度对应的压力变化速率以及目标压力的大小选择对应的算法进行压力自动控制。