一种清洗设备
申请人信息
- 申请人:睿智源半导体科技(苏州)有限公司
- 申请人地址:215300 江苏省苏州市昆山市玉山镇吴淞路66号A-4厂房一层
- 发明人: 睿智源半导体科技(苏州)有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种清洗设备 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420820476.9 |
| 申请日 | 2024/4/19 |
| 公告号 | CN222106625U |
| 公开日 | 2024/12/3 |
| IPC主分类号 | H01L21/67 |
| 权利人 | 睿智源半导体科技(苏州)有限公司 |
| 发明人 | 陈铁龙; 林智颖; 程龙祥; 张振; 蔡翔羽 |
| 地址 | 江苏省苏州市昆山市玉山镇吴淞路66号A-4厂房一层 |
摘要文本
本实用新型属于半导体设备技术领域，公开了一种清洗设备，包括壳体和设置在壳体内的工艺槽、滚动机构、搬运机构和喷淋机构，工艺槽分为第一清洗槽和第二清洗槽，第一规格晶圆扩散高温密封管在第一清洗槽浸泡后由搬运机构搬运至第二清洗槽，进行不同工序清洁，搬运机构对其进行搬运，避免人工接触清洗液，滚动机构设在工艺槽底，能使第一规格晶圆扩散高温密封管转动，去除其上附着的杂质，壳体分为第一空间和第二空间，喷淋机构设在第二空间内，包括夹持台、喷淋组件和保护罩，第二规格晶圆扩散高温密封管置于保护罩内，第二空间内的喷淋机构可冲淋第二规格晶圆扩散高温密封管，还能防止清洗液溅射至工作人员。。
专利主权项内容
1.一种清洗设备，其特征在于，包括：
壳体(1)，所述壳体(1)包括第一空间(11)和第二空间(12)；
工艺槽(2)，用于放置第一规格晶圆扩散高温密封管(100)，所述工艺槽(2)设于所述第一空间(11)内，包括第一清洗槽(21)和第二清洗槽(22)，所述第一规格晶圆扩散高温密封管(100)在所述第一清洗槽(21)内和所述第二清洗槽(22)内进行不同工序清洗；
滚动机构(3)，设于所述工艺槽(2)内，所述滚动机构(3)能够使所述工艺槽(2)内的所述晶圆扩散高温密封管(100)转动；
搬运机构(4)，用于将所述第一规格晶圆扩散高温密封管(100)从所述第一清洗槽(21)移动至所述第二清洗槽(22)；
喷淋机构(5)，设于所述第二空间(12)内，所述喷淋机构(5)包括夹持台(51)、喷淋组件(52)和保护罩(53)，所述夹持台(51)能夹持第二规格晶圆扩散高温密封管(101)并带动所述第二规格晶圆扩散高温密封管(101)转动，所述喷淋组件(52)能够冲洗所述第二规格晶圆扩散高温密封管(101)，所述保护罩(53)设于所述第二空间(12)内，所述第二规格晶圆扩散高温密封管(101)置于所述保护罩(53)内。