本发明涉及一种在透光衬底上制备微纳米结构图案的方法，先以遮光基材为原料，在透光的衬底材料的一表面上制备遮光基材层，在该遮光基材层上制备凹凸微纳米结构图案；在凹凸微纳米结构图案的凹槽中填充掩膜材料；再使用高能光束透过透光衬底，使凹槽中填充的掩膜材料固化，形成掩膜层；对遮光基材和衬底材料进行刻蚀；去除掩膜层，在衬底材料上获得微纳米结构图案。
本发明的制作方法成本低，不需要使用蒸镀等高耗能方法制备掩膜层；可以简单、低能耗、高效率地制备厚度较大的掩膜层，大大降低高深宽比微纳米结构图案制备的困难度。

李若松 黄翀

长沙新材料产业研究院有限公司

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本发明涉及一种在透光衬底上制备微纳米结构图案的方法，先以遮光基材为原料，在透光的衬底材料的一表面上制备遮光基材层，在该遮光基材层上制备凹凸微纳米结构图案；在凹凸微纳米结构图案的凹槽中填充掩膜材料；再使用高能光束透过透光衬底，使凹槽中填充的掩膜材料固化，形成掩膜层；对遮光基材和衬底材料进行刻蚀；去除掩膜层，在衬底材料上获得微纳米结构图案。
本发明的制作方法成本低，不需要使用蒸镀等高耗能方法制备掩膜层；可以简单、低能耗、高效率地制备厚度较大的掩膜层，大大降低高深宽比微纳米结构图案制备的困难度。