本发明涉及化学机械抛光组合物，包含：(a)氧化铈研磨剂颗粒；(b)阳离子型聚合物；(c)非离子型聚合物，包含聚乙二醇十八烷基醚、聚乙二醇月桂基醚、聚乙二醇油烯基醚、聚(乙烯)‑共‑聚(乙二醇)、辛基苯氧基聚(乙烯氧基)乙醇、或其组合；(d)饱和一元酸；及(e)水性载剂。
本发明还涉及抛光基板的方法。

S.布罗斯南

嘉柏微电子材料股份公司

美国伊利诺伊州

本发明涉及化学机械抛光组合物，包含：(a)氧化铈研磨剂颗粒；(b)阳离子型聚合物；(c)非离子型聚合物，包含聚乙二醇十八烷基醚、聚乙二醇月桂基醚、聚乙二醇油烯基醚、聚(乙烯)‑共‑聚(乙二醇)、辛基苯氧基聚(乙烯氧基)乙醇、或其组合；(d)饱和一元酸；及(e)水性载剂。
本发明还涉及抛光基板的方法。