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专利摘要

【课题】提供一种掩膜制造装置以及使用该掩膜制造装置的掩膜制造方法,其能够制造出:掩膜图案开口部不会产生变形的,能够抑制掩膜图案开口部的纵方向与横方向之间出现尺寸偏差掩膜。
【解决手段】本发明的掩膜制造装置20以及掩膜制造方法,具有:掩膜片保持部25,配置在掩膜开口部8中,并且具有磁吸盘53,能够在对掩模图案形成区域6的外侧边缘部2a进行磁吸附的吸附状态与非吸附状态之间进行切换;对准摄像头27,用于检测在每个掩膜片2上设置的多个对准孔7相对于玻璃母板26上设置的多个对准记号63的偏移量;粗动平台51以及细动平台52,移动掩膜片保持部25从而对偏移量进行补正;以及作为接合装置的焊接机器人28A、28B,将掩膜图案形成区域6的外侧边缘部2a与掩膜开口部8的外侧边缘部3a接合。

专利状态

基础信息

专利号
CN201810877613.1
申请日
2018-08-03
公开日
2021-07-09
公开号
CN109385601B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

浅野邦一 福居克幸 土桥美博

申请人

株式会社饭沼GAUGE制作所

申请人地址

日本国长野县茅野市玉川字原山11400番地1078

专利摘要

【课题】提供一种掩膜制造装置以及使用该掩膜制造装置的掩膜制造方法,其能够制造出:掩膜图案开口部不会产生变形的,能够抑制掩膜图案开口部的纵方向与横方向之间出现尺寸偏差掩膜。
【解决手段】本发明的掩膜制造装置20以及掩膜制造方法,具有:掩膜片保持部25,配置在掩膜开口部8中,并且具有磁吸盘53,能够在对掩模图案形成区域6的外侧边缘部2a进行磁吸附的吸附状态与非吸附状态之间进行切换;对准摄像头27,用于检测在每个掩膜片2上设置的多个对准孔7相对于玻璃母板26上设置的多个对准记号63的偏移量;粗动平台51以及细动平台52,移动掩膜片保持部25从而对偏移量进行补正;以及作为接合装置的焊接机器人28A、28B,将掩膜图案形成区域6的外侧边缘部2a与掩膜开口部8的外侧边缘部3a接合。

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