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专利摘要

本发明公开了一种单晶生长炉,在炉壁上设置有:一组观察装置介入孔,用于接纳观察晶体生长情况的观察装置;一组激光加热装置介入孔,用于接纳加热消除多晶晶界的激光加热装置;以及一组保护件,所述保护件设置在所述激光加热装置介入孔位于炉壁内侧的一端,用于接纳及保护激光加热装置。
还公开了一种单晶生长方法包括:当观察装置发现晶界时,使用激光加热装置对晶界进行加热熔化。
通过实时监控及时发现晶界,通过激光加热熔化晶界区域,纠正生长过程,或者多晶控制在最终产品的最外层,大大提高成品率和产品质量,节约大量生产成本。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010253350.4
申请日
2020-04-02
公开日
2020-08-21
公开号
CN111560647A
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

庞昊 谢雨凌

申请人

庞昊

申请人地址

201204 上海市浦东新区御桥路1679弄10号1003室

专利摘要

本发明公开了一种单晶生长炉,在炉壁上设置有:一组观察装置介入孔,用于接纳观察晶体生长情况的观察装置;一组激光加热装置介入孔,用于接纳加热消除多晶晶界的激光加热装置;以及一组保护件,所述保护件设置在所述激光加热装置介入孔位于炉壁内侧的一端,用于接纳及保护激光加热装置。
还公开了一种单晶生长方法包括:当观察装置发现晶界时,使用激光加热装置对晶界进行加热熔化。
通过实时监控及时发现晶界,通过激光加热熔化晶界区域,纠正生长过程,或者多晶控制在最终产品的最外层,大大提高成品率和产品质量,节约大量生产成本。

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