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专利摘要

本发明公开了一种有机无机金属卤化物钙钛矿单晶薄膜制备方法,涉及外延生成单晶钙钛矿薄膜技术领域。
本发明通过运用毛细管力和温度梯度,在晶格匹配单晶基底片上原位生长厚度可控的钙钛矿单晶薄膜,从而控制钙钛矿晶体的形貌,使单晶钙钛矿薄膜与单晶基底片晶格匹配,提高单晶钙钛矿薄膜的质量。
与现有技术相比,本发明操作简单,薄膜形貌和厚度可控,容易获得与单晶基底片晶格匹配的优质单晶薄膜;同时,单晶钙钛矿薄膜生长周期短,降低了成本。

专利状态

基础信息

专利号
CN201811483408.3
申请日
2018-12-05
公开日
2019-02-22
公开号
CN109371462A
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

赵晋津 张颖 欧云 钟高阔 刘金喜 刘正浩 李明 吴竞伟 赵泽文 贾春媚 苏晓

申请人

石家庄铁道大学 中国科学院深圳先进技术研究院

申请人地址

050043 河北省石家庄市北二环东路17号石家庄铁道大学

专利摘要

本发明公开了一种有机无机金属卤化物钙钛矿单晶薄膜制备方法,涉及外延生成单晶钙钛矿薄膜技术领域。
本发明通过运用毛细管力和温度梯度,在晶格匹配单晶基底片上原位生长厚度可控的钙钛矿单晶薄膜,从而控制钙钛矿晶体的形貌,使单晶钙钛矿薄膜与单晶基底片晶格匹配,提高单晶钙钛矿薄膜的质量。
与现有技术相比,本发明操作简单,薄膜形貌和厚度可控,容易获得与单晶基底片晶格匹配的优质单晶薄膜;同时,单晶钙钛矿薄膜生长周期短,降低了成本。

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