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专利摘要

本发明公开了一种惰性气体保护下的HEM晶体生长方法,它包含以下步骤:(1)、将晶体放入晶体生长炉内;(2)、密封晶体生长炉内并进行真空处理直至炉内真空度达到5-10毫托;(3)、往晶体生长炉中缓慢充入HE和AR的体积比为1:1.5-3的HE-AR惰性混合气体排杂;(4)、采用加热器对晶体生长炉开始加热,进行HEM晶体生长,炉内温度始终不低于2000℃,在晶体生长过程中,持续充入HE-AR惰性混合气体直至晶体生长完成。
本发明的有益效果是:利用HE-AR惰性混合气体实现了HEM晶体生长,晶体的生长效果好,规避了国际上氦气供应的问题,同时节约了生产成本,减少了采购风险。

专利状态

基础信息

专利号
CN201310080414.5
申请日
2013-03-12
公开日
2016-01-06
公开号
CN103173855B
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
授权

发明人

季泳 张龚磊

申请人

贵阳嘉瑜光电科技咨询中心

申请人地址

550004 贵州省贵阳市高新开发区金阳知识产业园253室

专利摘要

本发明公开了一种惰性气体保护下的HEM晶体生长方法,它包含以下步骤:(1)、将晶体放入晶体生长炉内;(2)、密封晶体生长炉内并进行真空处理直至炉内真空度达到5-10毫托;(3)、往晶体生长炉中缓慢充入HE和AR的体积比为1:1.5-3的HE-AR惰性混合气体排杂;(4)、采用加热器对晶体生长炉开始加热,进行HEM晶体生长,炉内温度始终不低于2000℃,在晶体生长过程中,持续充入HE-AR惰性混合气体直至晶体生长完成。
本发明的有益效果是:利用HE-AR惰性混合气体实现了HEM晶体生长,晶体的生长效果好,规避了国际上氦气供应的问题,同时节约了生产成本,减少了采购风险。

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