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专利摘要

本申请公开了一种制备单晶的装置和碳化硅单晶的制备方法,属于半导体材料领域。
该制备单晶的装置包括坩埚、加热线圈组和保温结构,所述坩埚形成生长腔,所述生长腔包括盛放原料的原料区和设置籽晶的长晶区,所述加热线圈组围绕所述坩埚的侧壁设置,所述加热线圈组包括与所述原料区对应设置的第一线圈组和,与所述长晶区对应设置的第二线圈组,沿自原料至籽晶的方向,所述第二线圈组的内径增大。
该单晶生长装置不仅可以调节生长单晶的生长腔内径向温度梯度;并且可以在降低径向温度梯度的同时,可以保证具有一定的轴向温度梯度,而可以高效率的制得高质量的单晶。

专利状态

基础信息

专利号
CN201911370512.6
申请日
2019-12-26
公开日
2021-03-19
公开号
CN111088525B
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

高宇晗 方帅 周敏 姜兴刚 窦文涛 宗艳民

申请人

山东天岳先进科技股份有限公司

申请人地址

250118 山东省济南市槐荫区天岳南路99号

专利摘要

本申请公开了一种制备单晶的装置和碳化硅单晶的制备方法,属于半导体材料领域。
该制备单晶的装置包括坩埚、加热线圈组和保温结构,所述坩埚形成生长腔,所述生长腔包括盛放原料的原料区和设置籽晶的长晶区,所述加热线圈组围绕所述坩埚的侧壁设置,所述加热线圈组包括与所述原料区对应设置的第一线圈组和,与所述长晶区对应设置的第二线圈组,沿自原料至籽晶的方向,所述第二线圈组的内径增大。
该单晶生长装置不仅可以调节生长单晶的生长腔内径向温度梯度;并且可以在降低径向温度梯度的同时,可以保证具有一定的轴向温度梯度,而可以高效率的制得高质量的单晶。

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