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专利摘要

本申请公开了一种高质量碳化硅单晶、衬底及其高效制备方法,属于半导体材料领域。
该制备方法包括将原料和籽晶置于坩埚,组装坩埚和保温结构置于长晶炉内,长晶炉侧壁外围设置热线圈组,安装调节机构;除杂;长晶;其中,加热线圈组包括与原料区对应设置的第一线圈组和,与长晶区对应设置的第二线圈组,沿自原料至籽晶的方向,第二线圈组的内径增大。
该碳化硅单晶的制备方法设置形成生长腔内的轴向温度梯度,可以制得高质量的碳化硅单晶;调节生长单晶的生长腔内径向温度梯度,提高长晶速率和长晶质量;在降低径向温度梯度的同时,可以保证具有一定的轴向温度梯度,可以高效制得高质量碳化硅单晶。

专利状态

基础信息

专利号
CN201911368211.X
申请日
2019-12-26
公开日
2021-04-02
公开号
CN111118598B
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

高宇晗 方帅 周敏 姜兴刚 窦文涛 宗艳民

申请人

山东天岳先进科技股份有限公司

申请人地址

250118 山东省济南市槐荫区天岳南路99号

专利摘要

本申请公开了一种高质量碳化硅单晶、衬底及其高效制备方法,属于半导体材料领域。
该制备方法包括将原料和籽晶置于坩埚,组装坩埚和保温结构置于长晶炉内,长晶炉侧壁外围设置热线圈组,安装调节机构;除杂;长晶;其中,加热线圈组包括与原料区对应设置的第一线圈组和,与长晶区对应设置的第二线圈组,沿自原料至籽晶的方向,第二线圈组的内径增大。
该碳化硅单晶的制备方法设置形成生长腔内的轴向温度梯度,可以制得高质量的碳化硅单晶;调节生长单晶的生长腔内径向温度梯度,提高长晶速率和长晶质量;在降低径向温度梯度的同时,可以保证具有一定的轴向温度梯度,可以高效制得高质量碳化硅单晶。

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