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专利摘要

本发明公开了一种碳化硅单晶生长装置,包括:用于容纳碳化硅原料和碳化硅籽晶的坩埚,所述坩埚外周包裹有隔热层,所述坩埚包括上部的碳化硅原料区和下部的碳化硅单晶生长区;在所述的碳化硅原料区,坩埚内外壁之间设置有开口向上的碳化硅原料槽,碳化硅原料槽内侧槽壁上端与坩埚上端内壁形成石墨通道;在所述的碳化硅单晶生长区,坩埚内腔中设置有石墨管,石墨管的管壁上端与碳化硅原料区的坩埚内壁下端无缝对接,碳化硅籽晶位于坩埚底部且位于石墨管的内腔中,石墨管的内腔构成碳化硅单晶生长室;经加热,升华的碳化硅原料通过石墨通道沿重力方向移动至碳化硅单晶生长室。
本发明提供缩短工艺时间和降低成本的方式制造高品质碳化硅晶的装置。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010987523.5
申请日
2020-09-18
公开日
2020-12-25
公开号
CN112126975A
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

裴悠松 徐洙莹 李钟海

申请人

山东国晶电子科技有限公司

申请人地址

257000 山东省东营市东营区云门山路1123号东营区石油科技产业园1期1号

专利摘要

本发明公开了一种碳化硅单晶生长装置,包括:用于容纳碳化硅原料和碳化硅籽晶的坩埚,所述坩埚外周包裹有隔热层,所述坩埚包括上部的碳化硅原料区和下部的碳化硅单晶生长区;在所述的碳化硅原料区,坩埚内外壁之间设置有开口向上的碳化硅原料槽,碳化硅原料槽内侧槽壁上端与坩埚上端内壁形成石墨通道;在所述的碳化硅单晶生长区,坩埚内腔中设置有石墨管,石墨管的管壁上端与碳化硅原料区的坩埚内壁下端无缝对接,碳化硅籽晶位于坩埚底部且位于石墨管的内腔中,石墨管的内腔构成碳化硅单晶生长室;经加热,升华的碳化硅原料通过石墨通道沿重力方向移动至碳化硅单晶生长室。
本发明提供缩短工艺时间和降低成本的方式制造高品质碳化硅晶的装置。

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