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提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置
摘要文本
中国电子科技集团公司第四十六研究所取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型提供了一种提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置,所述提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置包括反应腔室、样品台和微波组件,反应腔室顶部中心设有进气口,底部侧面均匀开设有多个出气口;样品台在反应腔室内,与反应腔室底部中心连接;微波组件设在反应腔室一侧,与反应腔室连接并连通。本实用新型提供的提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置,在底部均匀开设有至少四个出气口,改变了气体流动方式,提高了腔室内气体流场分布均匀性,从而提高衬底表面温度、腔室内活性基团分布均匀性,进而提高金刚石膜的质量和均匀性。
专利主权项内容
1.一种提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置,其特征在于,包括:
反应腔室(2),顶部中心设有进气口(10),底部侧面均匀开设有多个出气口(11),多个所述出气口(11)至少为四个;
样品台(3),在所述反应腔室(2)内,与所述反应腔室(2)底部中心连接,所述样品台(3)上适于放置衬底;以及
微波组件,设在所述反应腔室(2)一侧,与所述反应腔室(2)连接并连通,用来向所述反应腔室(2)内发射微波。 (来自 )
专利申请信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202323323717.3 |
| 申请日 | 2023/12/6 |
| 公告号 | CN222064661U |
| 公开日 | 2024/11/26 |
| IPC主分类号 | C23C16/511 |
| 权利人 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
| 发明人 | 刘莎莎; 兰飞飞; 王英民; 房诗舒; 程红娟; 刘金鑫 |
| 地址 | 天津市河西区洞庭路26号 |