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提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置

申请号: CN202323323717.3
申请人: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
更新日期: 2026-04-22

摘要文本

中国电子科技集团公司第四十六研究所取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型提供了一种提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置,所述提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置包括反应腔室、样品台和微波组件,反应腔室顶部中心设有进气口,底部侧面均匀开设有多个出气口;样品台在反应腔室内,与反应腔室底部中心连接;微波组件设在反应腔室一侧,与反应腔室连接并连通。本实用新型提供的提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置,在底部均匀开设有至少四个出气口,改变了气体流动方式,提高了腔室内气体流场分布均匀性,从而提高衬底表面温度、腔室内活性基团分布均匀性,进而提高金刚石膜的质量和均匀性。

专利主权项内容

1.一种提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置,其特征在于,包括:
反应腔室(2),顶部中心设有进气口(10),底部侧面均匀开设有多个出气口(11),多个所述出气口(11)至少为四个;
样品台(3),在所述反应腔室(2)内,与所述反应腔室(2)底部中心连接,所述样品台(3)上适于放置衬底;以及
微波组件,设在所述反应腔室(2)一侧,与所述反应腔室(2)连接并连通,用来向所述反应腔室(2)内发射微波。 (来自 )

专利申请信息

项目 内容
专利名称 提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置
专利类型 实用新型
申请号 CN202323323717.3
申请日 2023/12/6
公告号 CN222064661U
公开日 2024/11/26
IPC主分类号 C23C16/511
权利人 中国电子科技集团公司第四十六研究所
发明人 刘莎莎; 兰飞飞; 王英民; 房诗舒; 程红娟; 刘金鑫
地址 天津市河西区洞庭路26号