← 返回列表

磁控溅射镀膜装置

申请号: CN202421034473.9
申请人: 拉普拉斯(西安)科技有限责任公司
更新日期: 2026-05-14

专利详细信息

项目 内容
专利名称 磁控溅射镀膜装置
专利类型 实用新型
申请号 CN202421034473.9
申请日 2024/5/13
公告号 CN222226532U
公开日 2024/12/24
IPC主分类号 C23C14/35
权利人 拉普拉斯(西安)科技有限责任公司
发明人 祁文杰; 卢秋霞; 林佳继
地址 陕西省西安市西咸新区泾河新城崇文镇泾河三街76号光电子学研究与创新中心3号楼3-4层

摘要文本

拉普拉斯(西安)科技有限责任公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本申请属于太阳能电池制造技术领域,涉及一种磁控溅射镀膜装置,该磁控溅射镀膜装置包括炉体、磁控溅射机构、供气机构以及多个加热件,炉体设置有反应腔,反应腔的腔壁为连续的平滑过渡面;磁控溅射机构活动安装于反应腔内,供气机构与反应腔相连通;多个加热件均设置于炉体;沿第一方向观察,多个加热件围绕反应腔分布;第一方向为炉体的轴线方向。本申请中的磁控溅射镀膜装置通过将反应腔的腔壁设计成连续平滑过渡面,能够降低因反应腔内出现死角,导致反应气体堆积的风险,从而使反应气体均匀分布在反应腔内,提高磁控溅射镀膜装置镀膜的均匀性,进而提高太阳能电池性能。

专利主权项内容

1.一种磁控溅射镀膜装置,其特征在于,所述磁控溅射镀膜装置包括:
炉体,所述炉体设置有反应腔,所述反应腔的腔壁为连续的平滑过渡面;
磁控溅射机构,所述磁控溅射机构至少部分安装于所述反应腔内;
供气机构,所述供气机构与所述反应腔相连通;
多个加热件,多个所述加热件均设置于所述炉体;沿第一方向观察,多个所述加热件围绕所述反应腔分布;所述第一方向为所述炉体的轴线方向。。